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氧化沟工艺

时间:2007-01-05 来源: 作者:

  1.3 氧化沟技术的发展

  自1920年英国sheffield建立的污水厂成为氧化沟技术先驱以来,氧化沟技术一直在不断的发展和完善。其技术方面的提高是在两个方面同时展开的:一是工艺的改良;二是曝气设备的革新。

  1.3.1 工艺的改良

  工艺的改良过程大致可分为四个阶段:

阶段

型式

初期氧化沟

1954年,Pasveer教授建造的Voorshopen氧化沟,间歇运行。分进水、曝气净化、沉淀和排水四个基本工序

规模型氧化沟

增加沉淀池,使曝气和沉淀分别在两个区域进行,可以连续进水

多样型氧化沟

考虑脱氮除磷等要求。著名的有DE氧化沟Carrousel氧化沟Orbal氧化沟

一体化氧化沟

时空调配型(D型,VR型,T型等)合建式(BMTS式,侧沟式,中心岛式等)

  1.3.2 曝气设备的革新:

  曝气设备氧化沟的处理效率,能耗及处理稳定性有关键性影响,其作用主要表现在以下四个方面:向水中供氧;推进水流前进,使水流在池内作循环流动;保证沟内活性污泥处于悬浮状态;使氧、有机物、微生物充分混合。针对以上几个要求,曝气设备也一直在改进和完善。常规的氧化沟曝气设备有横轴曝气装置及竖轴曝气装置。

  1) 横轴曝气装置为转刷和转盘。其中转刷更为常见,转刷单独使用通常只能满足水深较浅的氧化沟,有效水深不大于2.0-3.5米。从而造成传统氧化沟较浅,占地面积大的弊端。近几年开发了水下推进器配合转刷,解决了这个问题,如山东高密污水厂,有效水深为4.5米,保证沟内平均流速大于0.3米/秒,沟底流速不低于0.1米/秒,这样氧化沟占地大大减少,转刷技术运用已相当成熟,但因其供氧率低,能耗大,故其逐渐被另外先进的曝气技术所取代。

  2) 竖轴式表面曝气机,各种类型的表面曝气机均可用于氧化沟,一般安装在沟渠的转弯处,这种曝气装置有较大的提升能力,氧化沟水深可达4-4.5米,如1968年荷兰PHV开发的著名Carrousel氧化沟在一端的中心设垂直轴的一定方向的低速表曝叶轮,叶轮转动时除向污水供氧外,还能使沟中水体沿一定方向循环流动。表曝设备价格较便宜,但能耗大易出故障,且维修困难。

  3) 射流曝气,1969年Lewrnpt等创建了第一座试验性射流曝气氧化沟(JAC),国外的射流曝气多为压力供气式,而国内通常是自吸空气式,JAC的优点是氧化沟的宽度和水的深度不受限制,可以用于深水曝气,且氧的利用率高,目前最大的JAC在奥地利的林茨,处理流量为17.2万吨/天,水深7.5米。

  4) 微孔曝气,现在应用较多的微孔曝气装置,采用多孔性空气扩散装置克服了以往装置气压损失大,易堵塞的毛病,且氧利用率较高,在氧化沟技术运用中越来越广泛,目前,我国广东省某污水厂已成功运用此种曝气系统。

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